Holographic Grating Erasing Characteristics by Non-polarized Beam in Amorphous Chalcogenide Thin Films

نویسندگان
چکیده

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Ag-photodoping in Ge-chalcogenide amorphous thin films—Reaction products and their characterization

We make a brief review on the effect of silver photodiffusion in Ge-chalcogenide glasses and report some of our recent results in this aspect. Using Raman spectroscopy and X-ray diffraction analysis we demonstrate that the hosting backbone undergoes depletion in chalcogen due to the specific conditions of photodiffusion and the diffusion products are silver chalcogenides. While in the Ge–Se sys...

متن کامل

The Li Insertion/Extraction Characteristics of Amorphous Silicon Thin Films

Amorphous hydrogenated silicon (a-Si:H) is known to be a perspective material for negative electrodes of modern lithium-ion batteries. The electrochemical lithium insertion into thin-film a-Si:H electrodes is studied using chronopotentiometry, cyclic voltammetry (CV), and electrochemical impedance spectroscopy (EIS). The electrodes were grown on stainless-steel substrates by glow discharge at t...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Transactions on Electrical and Electronic Materials

سال: 2006

ISSN: 1229-7607

DOI: 10.4313/teem.2006.7.3.141